Samikhape - (vesinikkloriidhape, vesinikkloriidi vesilahus), mida tuntakse HCL-i valemiga - söövitav keemiline ühend. Alates iidsetest aegadest kasutab inimene erinevatel eesmärkidel see värvitu vedelik, mis kiirgab kergelt kerget valgustit õues.

Keemilise ühendi omadused

HCl rakendatakse erinevates inimtegevuse valdkondades. See lahustab metallide ja nende oksiidide, benseenis, eeter ja vees imendunud, ei hävita fluorokslasti, klaasi, keraamika ja grafiidi. Selle ohutu kasutamine on võimalikult ladustamisel ja töö ajal õiges tingimustes vastavalt kõigile ohutusstandarditele.

Keemiliselt puhas (HF) vesinikkloriidhape on moodustatud gaasilise sünteesiga kloori ja vesiniku, andes vesinikkloriidi. See imendub vees, saades lahuse HCI sisaldusega 38-39% +18 ° C juures vesinikkloriidi vesilahust kasutatakse mitmesugustes inimtegevuse sfäärides. Soolhappe HC hind on muutuv ja sõltub paljudest komponentidest.

Vesinikkloriidi vesilahuse ulatus

Vesinikkloriidhappe kasutamine jaotati selle keemiliste ja füüsikaliste omaduste tõttu:

• metallurgia, mangaani, raua ja tsinki tootmisel, tehnoloogilised protsessid, metallist puhastamine;
• galvanoplastikas - söövitamise ja deklareerimisel;
• sooda sooda vee tootmisel happesuse reguleerimiseks alkohoolsete jookide ja siirupite valmistamisel toiduainetööstuses;
• naha käitlemise jaoks kerge tööstuse valdkonnas;
• kui puhastate joogivee puhastamist;
• et optimeerida naftatootmisse tööstuse nafta kaevude;
• raadiotehnoloogias ja elektroonikas.

Kloriidi vesinikkloriidhape (HCI) meditsiinis

Soolhappe lahuse kõige kuulsam vara on inimkehas happe-leeliselise tasakaalu joondamine. Nõrk lahus või valmistised, mao vähenenud happesus töödeldakse. See optimeerib toidu seedimist, aitab võidelda mikroobide ja bakteritega, mis tungivad väljastpoolt. HROLH vesinikkloriidhape aitab kaasa maomahla happesuse madala taseme normaliseerumisele ja optimeerib valgu seedimist.

Onkoloogia rakendab HCl neoplasmite raviks ja nende progresseerumise pidurdamisel. Soolhappe preparaadid on ette nähtud maovähi, reumatoidartriidi, diabeedi, astma, urtikaaria, sapikivihaiguse ja teiste ennetamiseks. Folkmeditsiinis töödeldakse nõrka lahus hemorroididega.

Lisateavet vesinikkloriidhappe omaduste ja liikide kohta saate teada saada.

Happena. Haridusprogramm näeb ette nende nimede nimed ja kuue selle rühma esindajate nimed. Ja õpiku pakutava tabeli sirvimine märkate hapete loendis, et see maksab kõigepealt ja huvitab teid kõigepealt soola. Alas, koolis, ei omadusi ega muud teavet selle kohta uuritakse. Seega, janu, et saada teadmisi väljaspool kooliprogrammi otsivad lisateavet iga allikas. Kuid sageli paljud ei leia vajalikku teavet. Ja seetõttu on tänase artikli teema pühendatud nende hape täpselt.

Määratlus

Samikhape on tugev mono suur hape. Mõnes allikates võib seda nimetada kloroks ja kloriidvesinikks, samuti vesinikkloriidi.

See on värvitu ja suitsetamine õhutõmbevedelikus (foto paremal). Tehniline hape raua, kloori ja teiste lisandite olemasolu tõttu on kollakas värv. Suurim kontsentratsioon temperatuuril 20 ° C on 38%. Selliste parameetritega vesinikkloriidhappe tihedus on 1,19 g / cm3. Kuid see ühendus erineva küllastuse kraadiga on täiesti erinevad andmed. Kui kontsentratsioon väheneb, väheneb molaarse, viskoossuse ja sulamistemperatuuri arvulise väärtuse vähenemine spetsiifilise soojusvõimsuse ja keemistemperatuuriga. Harding vesinikkloriidhape mis tahes kontsentratsiooni annab erinevate kristallhüdraatide.

Keemilised omadused

Kõik metallid, mis maksavad vesinikule oma pinge elektrokeemilises seerias, võivad selle ühendiga suhelda, moodustades soolade ja vesinikgaasi esiletõstmisega. Kui need asendatakse metalloksiididega, on reaktsioonisaadused lahustuvad soola ja vett. Sama mõju on ka vesinikkloriidhappe koostoime hüdroksiididega. Kui see lisatakse sellele mis tahes metallist sool (näiteks naatriumkarbonaat), mille jääk võeti nõrgema happe (söe), siis moodustub selle metalli (naatrium) kloriidi (naatrium), vee ja happejäägile vastava gaasi) Sel juhul - süsinikdioksiid).

Saamine

Praegu arutatud ühend on moodustatud, kui gaasiline vesinikgaas lahustatakse vees, mida saab saada vesiniku põletamise teel kloori juures. Seda meetodi abil saadi salalikhape nimetatakse sünteetiliseks. Ka selle aine kaevandamise allikas võib olla abgazy. Sellist vesinikkloriidhapet nimetatakse ABGAZNAYA-le. Hiljuti on selle meetodiga vesinikkloriidhappe tootmise tase palju suurem kui sünteetilise meetodi saamine, kuigi viimane annab ühendi puhtamas vormis. Need on kõik võimalused selle vältimiseks tööstuses. Kuid laboratooriumides saadakse vesinikkloriidhape kolmel viisil (esimesed kaks erinevad ainult temperatuuri ja reaktsioonitoodetes) erinevate kemikaalide koostoimega, näiteks:

1. Naatriumkloriidi küllastunud väävelhappe mõju temperatuuril 150 ° C.
2. Ülaltoodud ainete koostoimet tingimustel, mille temperatuur on 550 ° C ja suurem.
3. Alumiiniumi või magneesiumkloriidide hüdrolüüs.

Hüdmetallurgia ja galvanoplastika ei saa ilma vesinikkloriidhappe kasutamiseta teha, kus on vaja metallide pinda puhastamiseks ja mangaani, raua, tsinkide ja muude metallide kloride saamiseks. Toiduainetööstuses teab see ühend, kuidas E507 toidulisand on müüja (sooda) vee valmistamiseks vajaliku happesuse regulaator on reguleerija. Kontsentreeritud vesinikkloriidhape on ka iga inimese maomahla maas mahla ja aitab seedida toitu. Selle protsessi käigus väheneb selle küllastumise aste, sest See kompositsioon lahjendatakse toiduga. Kuid pikaajalise nälgaga kasvab vesinikkloriidhappe kontsentratsioon maos järk-järgult. Ja kuna see ühendus on väga söödaline, võib see põhjustada maohaavandi.

Järeldus

Samikhape võib olla nii kasulik kui ka kahjulik inimestele. Naha sisenemine põhjustab tugevate keemiliste põletuste ilmumist ja selle ühendi paari häirib hingamisteede ja silmade. Aga kui te ravite seda ainet hoolikalt, ei pruugi see olla mugav

12679; KRT 51,4 ° C, P Kreeta 8.258 MPa, D Kreeta 0,42 g / cm 3; -92,31 kJ / mol, dh 19924 kJ / mol (-114.22 ° C), DHP on 16 1421 KJ / MOL (-8,05 ° C); 186,79 J / (MOL · to); Rõhu rõhk (PA): 133,32 · 10 -6 (-200,7 ° C), 2,775 · 103 (-130,15 ° C), 10,0 · 104 (-85,1 ° C), 74,0 · 104 (- 40 ° C), 24,95 · 105 (° C), 76,9 · 105 (50 ° C); LGP paari rõhu temperatuur sõltuvus (kPa) \u003d -905,53 / t + 1,75LGT- -500,77 · 10 -5 T + 3,78229 (160-260 k); COEC. kokkusurutavus 0,00787; G 23 MN / cm (-155 ° C); R 0,29 · 107 OHM · M (-85 ° C), 0,59 · 107 (-114,22 ° C). Vt ka tabelit. üks.

HCl lahustuvus süsivesinike 25 ° C juures ja 0,1 MPa (Mol.%): Pentaan-0,47, hetaan-1,12, heptaan-1,47, oktaaan-1,63. NS1 kiirgus alküül- ja arüülgarganaatides on näiteks väike. 0,07 mol / mol 4 h 9 C1 jaoks. R-usaldusväärsus vahemikus -20 kuni 60 ° C väheneb dikloroetaan-kolmekloroetaan-tetraakloroetaan-trikloroetüleeni rea reaktsiooniks. R-töökindlus 10 ° C juures paljudes alkoholides on ligikaudu 1 mol / mooli alkoholi, süsiniku K-T 0,6 mol / mol, Carbo-New K-maksu 0,2 mol / mol. Eethelides moodustuvad resistentsed aduktid R2O · HCl. NS1 R-usaldusväärsus kloriidide sulamisel kehtivad Henry seaduses ja on CCL-i jaoks 2,51 · 10 -4 (800 ° C), 1,75 · 10 -4 mol / mol (900 ° C), NaCl jaoks 1,90 · 10 -4 mol / mol (900 ° C).

Soola Kian. HCI lahustumine vees on väga expo termiline. Lõputult tahke aine protsess. vesilahus P-RA D H 0 lahustumine NSL -69,9 kJ / Mol, ioon SL -- 167 080 kJ / mol; NS1 vees täielikult ioniseeritud. NS1 kiirgus vees sõltub T-RY-st (tabel 2) ja osalise rõhu NS1 gaasisegu. Vesinikkloriidhappe tihedus on katki. Kontsentratsioon ja H temperatuuril 20 ° C on esitatud tabelis. 3 ja 4. suureneb T-RY H vesinikkloriidhappe, nt: 23,05% vesinikkloriidhappe temperatuuril 25 ° CH 1364MP · C, temperatuuril 35 ° C 1 170 MPa · s. on [KJ / (kg · k)]: 3,136 (n \u003d 10), 3,580 (n \u003d 20), 3,902 (n \u003d 50), 4,036 (n \u003d 100), 4,061 (n \u003d 200).

HCl moodustab aseotroopse segu veega (tabel 5). HCl-veesüsteemis on kolm eutectic. Punktid: - 74,7 ° C (HCI massist 23,0 massiprotsenti); -73,0 ° C (26,5% NCL); -87,5 ° C (24,8% NS1, metastatav faas). Tuntud kristallivüdraadid NSL · NN20, kus n \u003d 8, 6 (t. Pl. -40 ° C), 4, 3 (nii pl. -24,4 ° C), 2 (m. -17, 7 ° C) ja 1 (nii pl. -15,35 ° C). Jää kristalliseeritakse 10% vesinikkloriidhappest temperatuuril -20 15% -AT -30-st alates 20% -5-4 -5-st ja 24%-4-tollist -80 ° C. Metallide kiiritus Halogeniidide suurenemisega HCI kontsentratsiooni suurenemisega vesinikkloriidhappes Falls, mida kasutatakse nende istutamiseks.

Keemilised omadused. Puhas kuiva NSL hakkab eraldama üle 1500 ° C, keemiliselt passiivne. Mn. Metallid, C, S, P ei ole õiged. Isegi vedeliku NSL-i puhul. Nitriidide, karbiidide, boriide, sulfide reageerib üle 650 ° C, SI hüdraterite, GE ja in-in-in Praegu. ALSL 3 koos üleminekuoksiididega 300 ° C juures ja kõrgem. Oksüdeeritud O2 ja HNO3 kuni Cl 2, SO 3 annab C1SO 3 H. R-ИЗ-des org-ga. Ühendite puhul vt hüdroalogeneratsiooni.

Alates oilinhape on keemiliselt väga aktiivne. See lahustab H2 vabanemisega kõik eitanud metallid. Tavaline potentsiaalminuga. Metallide oksiidid ja hüdroksiidid Vormid kloriidid, eraldavad vabad. K-sa oled sellistest sooladest, nagu fosfaadid, silikaadid, boraadid jne.

Saada.Promis saadakse NSL. Sulfaatmeetodid, sünteetilised. ja mitmete protsesside ABGAS (küljegaas). Kaks esimest meetodit kaotavad oma tähenduse. Seega USAs 1965. aastal oli abgsiinvesinikkloriidhappe osakaal tootmise kogumahus 77,6% ja 1982-94%.

Tootmine vesinikkloriidhappes (reaktiivne, saadud sulfaatmeetodiga, sünteetiline., ABGAZNAYA) on saada HCI-ga viimati. Selle imendumine veega. Sõltuvalt absorbeerimise soojuse eemaldamise meetodist (jõuab 72,8 kJ / mol) protsessid jagunevad protsessid isotermichiks., Adiabatich. ja kombineeritud.

Sulfaadi meetod põhineb lõpetamisel. NaCl konts. H2 SO 4 500-550 ° C juures. Jõuab. Gaasid sisaldavad 50-65% NCL-i (muffleahjud) kuni 5% HCl-ni (keevakihiline reaktor). Tehakse ettepanek asendada H2 SO 4 SO2 ja O2 seguga (T-RA protsess OK. 540 ° C, CAT.-FE 2 O 3).

NCL-i otsese sünteesi keskmes on keti tase põlemisel: H2 + CL2 2NSL + 184,7CH Equilibrium konstant kuni P arvutatakse vastavalt UR, LGK P \u003d 9554 / T- 0,5331g T + 2.42.

R-i rakendus algab valguse, niiskuse, tahke poorse (puusüsi, poorse PT) ja Ne-kala kaevandaja abil. Sina (kvarts, savi). Süntees, viinud liigse H2-ga (5-10%) terasest, grafiidi, kvartsist, tulekindla tellistest valmistatud põlemisskambritega. Naer SOVR. HCl reostuse vältimine, -graafi, immutatud FA-Nolo-Formaldi reostus. vaigud. Põlemise plahvatusohtliku olemuse vältimiseks segatakse reagendid otse leegi taskulamp-põletiga. Tipus. Põlemisskambri tsoon on paigaldatud soojusvahetid jahutusreaktoritele. Gaas kuni 150-160 ° C. Sokkide võimsus. Grafiit ahjud jõuab 65 t / päevas (35% vesinikkloriidhappe osas). N 2 puudujäägi puhul kohaldatakse jagamist. protsessi modifikatsioonid; Näiteks on möödunud CL2 segu veeauruga läbi poorse kuuma söe kihi kaudu:

2SL 2 + 2N2 O + C: 4NSL + CO 2 + 288,9 kJ

Protsessi protsess (1000-1600 ° C) sõltub söe liigist ja selle lisandite olemasolust, mis on katalüsaatorid (nt FE 2O 3). Vaadeldakse segus veeauruga seguga:

CO + H2O + SL 2: 2NCl + CO 2

Rohkem kui 90% vesinikkloriidhape arenenud riikides saadakse ABGASIC HCl-st, mis on moodustatud OR-i kloorimise ajal ja dehüdroklo-rõngastel. Ühendid, pürolüüs klororg. Jäätmed, metallkloriidid, kaaliumkloriidi vastuvõtmine. Väetised ja muud abgaasid sisaldavad RP-d. NCCH1, inertse lisandid (N2, H2, CH 4), soovimatu Og vesi. B-VA (klorobenseen, klorometaan), vees lahustuv in-VA (äädikhappe K-TA, kloor), happe lisandid (SL2, HF, O2) ja vesi. Rakendus isotermich. Imendumine on soovitatav NS1 madalal sisaldusega Abgashas (kuid inertseid lisandeid alla 40%). Naer Perspektiivfilmide absorbendid, mis võimaldavad eraldada algsest ABGAZ-st 65-85% ni NCL-i.

Naer Adiabatich skeeme kasutatakse laialdaselt. Imendumine. AbGazy tutvustatakse põhja. Osa absorbendi ja vee (või lahjendatud vesinikkloriidhappe) vastupidi. Samikhape kuumutatakse keedetud T-RY tõttu soojuse lahustuva NCL-i tõttu. Imendumise T-Glange'i muutmine ja HCl kontsentratsioon on toodud joonisel fig. 1. T-RA imendumist määratakse T-väga keedetud to-Sobiva kontsentratsiooniga (max. T-RA-T. Kip. Aseotroopne segu - umbes 110 ° C).

Joonisel fig. 2 Dana Tüüpiline Adiabatichi skeem. HCl-absgatsioonid kloorimise ajal moodustunud abgaasidest (nt klorobenseeni saamine). HCI absorbeerib absorbendis 1 ja jäänuseid või lahustuva org veega. B-B eraldatakse veest pärast aparaadi 2 kondenseerumist saba kolonnis 4 ja separaatorid 3, 5 ja saada süsiniku vesinikkloriidhapet.

Joonis fig. 1. Jaotusskeem T-P (kõver 1) ja

Samikhape on anorgaaniline aine, monosokundardhape, üks tugevamaid happeid. Kasutatakse ka teisi nimesid: vesinikkloriid, kloriidhape, vesinikkloriidhape.

Omadused

Puhas hape on värvi ja lõhnata vedelik. Tehniline hape sisaldab tavaliselt lisandeid, mis annavad talle kergelt kollakas tooni. Vesinikkloriidhapet nimetatakse sageli "suitsetamiseks", kuna see toob esile kloriidisaaduste paari, reageerivad vee niiskusega ja moodustades happe udu.

See on vees väga hästi lahustuv. Toatemperatuuril oli kloriidi maksimaalne võimalik sisaldus -38%. Happe kontsentratsioon on suurem kui 24%, loetakse kontsentreeritud.

Kloriidi vesinikkloriidhape reageerib aktiivselt metallide, oksiidide, hüdroksiidide, moodustavate sooladega - kloriididega. HCl suhtleb nõrgemate hapetega tugevate oksüdeerivate ainete ja ammoniaagiga.

Soolhappe või kloriide määramiseks kasutatakse reaktsiooni AGNO3 hõbe nitraadiga, mille tulemusena on valge puuvillase setete langemine.

Ohutustehnika

Aine on väga söövitav, söövitav nahk, orgaanilised materjalid, metallid ja nende oksiidid. Õhus, on paari kloriidi tootva paari, mis põhjustavad lämbumist, nahapõletusi, limaskestasid ja nina, kahjustavad hingamisteede elundeid, hävitavad hambad. Samikhape viitab ainetele 2 kraadi (väga ohtlik), reaktiivi PDC õhus on 0,005 mg / l. On võimalik töötada vesinikkloriidiga ainult filtri gaasimaskide ja kaitseriietusega, sealhulgas kummist kindad, põll, jalatsid.

Happe voolamisega pestakse seda rohke veega või neutraliseeritakse leeliseliste lahustega. Happest mõjutatud happest tuleb välja võtta ohualast, loputada nahka ja silmi veega või sooda lahusega, põhjustada arsti.

Transport ja kauplus Keemiline reaktiiv on lubatud klaasis, plastmahutis, samuti metallkonteineri kaetud sees kummist kihiga. Tara peab olema suletud.

Saamine

Tööstuslikult saadakse vesinikkloriidhape gaasilisest kloriidist (HCl). Kloriidi toodetakse kahe peamise viisiga:
- eksotermiline reaktsioon kloori ja vesinik - saades seega kõrge puhtusastmega reaktiiv, näiteks toiduainetööstuse ja farmaatsia;
- sellises HCl-le põhinevate tööstusgaaside assotsieerunud tööstusgaasidest nimetatakse ABGAZNAYA-le.

See on uudishimulik

See on vesinikkloriidhape "instrueerib kehas toidu lõhustamise protsessi. Happe kontsentratsioon maos on vaid 0,4%, kuid selgub olevat piisav, et seedetraadi tera seedida nädalas!

Hapet toodetakse mao rakkudes, mis on kaitstud selle agressiivse aine eest limaskestade poolt. Kuid selle pind uuendatakse iga päev kahjustatud alade taastamiseks. Lisaks osalemisele toidu seedimise protsessis teostab happes ka kaitsefunktsiooni, tapab patogeensete mikroorganisme, mis sisenevad keha läbi mao.

Taotlus

Meditsiinis ja ravimites - maomahla happesuse taastamiseks selle ebapiisavuses; Aneemia all, et parandada raua sisaldavate ravimite imendumist.
- Satelliidis on see toitelisand, E507 happesuse regulaator, samuti müüja (sooda) koostisosa (sooda) vesi. Kasutatakse fruktoosi, želatiini, sidrunhappe valmistamisel.
- keemiatööstuses - kloori saamise alus, sooda, \\ t naatrium-glutamicate, metallid kloriidid, näiteks tsingikloriid, mangaani kloriid, raudkloriid; Kloorooniliste ainete süntees; Orgaanilise sünteesi katalüsaator.
- Enamik kogu maailmas toodetud vesinikkloriidhapet kulub metallurgiasse, et puhastada kangid oksiididest. Nendel eesmärkidel kasutatakse inhibeeritavat tehnilist hapet, mis tutvustati reaktsiooni erialaseid inhibiitoreid (moderaatorid), mille tõttu reaktiivi lahustub oksiidide, kuid mitte metallist. Ka metallide söövitamine vesinikkloriidhape; Puhastage need enne metsaraie, jootmise, galvaniseerimist.
- naha töötlemine enne kahekordset töötlemist.
- Kaevandamissektoris on nõudlus hoiuste puhastamise vedelike puhastamiseks hoiuste töötlemiseks ja kaevanduste valmistamiseks.
- Laboratooriumipraktikas kasutatakse vesinikkloriidhapet analüütiliste uuringute jaoks populaarse reaktiivina, et puhastada anumad raskmisest reostusest.
- kasutatakse kummi-, tselluloosi- ja paberitööstuses, raudmetallurgias; Katlade puhastamiseks, torud, komplekssete hoiuste seadmed, skaala, rooste; Keraamiliste ja metalltoodete puhastamiseks.

Samikhape (sünonüüm: vesinikkloriidhape, hapete vesinikkloricum; NCL) on tugev monosokundaarne hape. See saadakse gaasilise vesinikkloriidi lahustamisega vees (HCl). Vesilahusetes, vesinikkloriidhape dissotsieerunud ioonidele: HCL↔H + + Cl -. Vesinikkloriidhappe puhtal kujul. Värvitu vedelik terava lõhnaga. Tehniline vesinikkloriidhape, mis sisaldab raua lisandeid, arseeni ja muid aineid, värvitakse kollaka rohelise rohelisena. Küllastunud HCl vesilahus, mis sisaldab umbes 42% vesinikkloriidi, suitsetab tugevalt õhus (suitsetamishüdrokloriidhape), kuna vabastatud HCl moodustab väiksemate vesinikkloriidhappe tilkade veeauruga. Müügil valmistatud kontsentreeritud vesinikkloriidhape sisaldab umbes 38% NCL-i.

Samikhape lahustub paljud metallid, oksiidid ja hüdroksiidmetallid, samas kui moodustatakse vesinikkloriidhappe soolad (kloriidid).

Inimese maomahla maas mahla on umbes 0,2% vesinikkloriidhapet, mis aitab kaasa toitumismasside üleminekule kõhuga kaksteistsõrmiksoole ja neutraliseerivate mikroobide neutraliseerivate mikroobide väliskeskkonnast. Samikhape aktiveerib pepsinogeeni, osaleb sekrediidise ja mõne muu hormoonide moodustamisel, stimuleerides kõhunäärme aktiivsust.

Samikhapet kasutatakse laialdaselt tehnika ja laborites. Soolhape väikseim tilkud, samuti gaasilised NCL-id häirivad limaskestasid, põhjustavad köha ja lämbumist. Krooniline mürgistus toob kaasa hammaste ja seedetrakti häirete hävitamiseni. Kui vesinikkloriidhape põhjustab nahale põletusi.

Esmaabi: Naatriumbikarbonaadi 2% sissehingamine) sissehingamine). Kui põletamine, pestakse kahjustatud koha kohe veega, seejärel veega veega.

HCl maksimaalne lubatud kontsentratsioon õhu 5 mg lauaarvutites 1 m 3 kohta.

Vt ka hapet, mürgistus.

Vesinikkloriidhappe ettevalmistused. Lahutatud soolahape (ACIDEUM HYDHROCHLOLICUM DULUTUM, ACIDE MURIATICUM RUULUM). Sisaldab 1 osa puhast vesinikkloriidhappe ja 2 vee osa. Vesinikkloriidi sisaldus on 8,2-8,4%. Rakenda tilka ja ravimeid, millel on hüpo- ja anacid gastriit, mao achilia, düspepsia. Hüporuumis aneemia, et parandada raua lahjendatud vesinikkloriidhappe imendumist. Määratud rauapreparaatidega (10-15 tilk 2-4 korda päevas, söögi ajal või pärast seda; suuremad annused: ühekordne - 30 tilka, iga päev - 90 tilka). Storage:, kolbides sobivate pistikutega.

Sageli on vesinikkloriidhappe preparaadid ette nähtud koos (vt). Acidsin-Pepsiini tabletid (Acidin-Pepsinum) sisaldavad 1 osa pepsiini ja 4 osa betaiini vesinikkloriidi. Maos eraldab betaiinihüdrokloriid vaba vesinikkloriidhapet. 0,4 g betaiini vesinikkloriidi vastab umbes 16 tilka lahjendatud vesinikkloriidhappe. Vabanemisvorm: tabletid 0,25-0,5 g. Need on ette nähtud 0,5 g 3-4 korda päevas, söödes või pärast sööki. Tablett lahustuda 1/4 klaasi vees.